ICOVL Cell

In Chip Overlay Cell，简称ICOVL单元，用于大的芯片设计中，检测工艺PO和OD（即栅）以及CO和PO（孔栅间距，或者栅的孔）的mask之间的重叠关系，可以减少mask对准上的错误。

两个ICOVL Overlay Cell可以分开使用，也可以组合使用。组合时cell中间的空间可以放其他cell，也可走线。一般ICOVL Cell的pitch大于2mm。Design Rule中给出根据floorplan的大小和形状放OVL的规则。

Overlay一般就是指下一层mask对以前的mask/图形的对准偏差，譬如Contact对Poly. 不同mask的overlay rule要求不同。对于40/45nm技术来说，S/D上的contact到poly的最小设计距离是40nm，overlay rule一般卡10nm好像；要是超过，contact到poly的short几率就会很大。而一般离子注入的mask对于active或poly的overlay要求就可以放宽到20nm样子，因为一般设计最小space是110nm样子。

TSMC 28nm提供了4种ICOVL Cell，2种单个的，2种混合的。

ICOVL Cell示意图：

参考：

http://hi.baidu.com/yangxiaomin/blog/item/740461d0b315489da0ec9c28.html  (已经无效了)